阿贝尔实验室自从得到莫水的“芯片空间”专利权后，立即在美国的专利局进行登记，同时，由实验室总部的系统分析专家团通过全面地进行“芯片空间”应用分析后，向全球的实验分室发布了新的系统研究支持方案，并通过掌握的众多的系统周边的硬件研究实验室发布新的系统需求。
就这样，通过了美国阿贝尔物理实验室，全球的各个IT相关的基础性的研究实验室，开始了新一轮的技术升级研究热。其实，哪个实验室会没有技术储备呢？！现在，只是因为这些的技术储备的某些方面已经可能将会走向台面上了，因此，对新的技术，新的方向，发个公告，表示严重关切之后，便继续着自己的研究罢了。
莫水对于这些资讯基本上是充耳不闻，除了在心里BS了全球的那些知名的实验室外，继续埋头着自己的实验。
这阵子，由于程鹏在对I/O总线的系统集成方面进行研究，因此，莫水难得的有单独行动时间。在CLASS100与CLASS10里面，由于阿贝尔实验室总部的新的系统解决方案的发布，现在实验室里本来就不多的人，基本上都往设计室去了，与时俱进，实验室怎么说都是为了经济效益服务的，因此，在新的系统解决方案面前，有很多的项目需要进行研究的。这样的好处，就是为莫水创造了大量的安全实验时间。
经过了几天的关键性电路的研究实验后，莫水现在终于可以着手进行完整芯片的制作了。为了能够保障这一行为动作的绝对安全与隐秘，在CLASS10里面，莫水制造了大量的在研究南北桥芯片三位一体的研究工作的录像。
在作足了各项准备工作后，莫水来到上海的初衷，来到阿贝尔实验室的目的，现在终于走上了最后的关键步骤。
Class10实验室只是提供了90纳米的芯片制造设备，对于65纳米、30纳米的设备，老美是不可能会放到中国的实验室的。但是，就算是90纳米的制造设备，还是完全满足了莫水的要求，如果不是受限于芯片物理尺寸的大小，莫水甚至还希望采用更低标准的制造设备，100纳米或则是130纳米的设备都是可以的。毕竟“卦象芯片”所使用的晶体管不会超过1。01亿个的。当然，如果想开发更高端的，性能更优越的“卦象芯片”，那么更高水平的芯片纳米制造设备是必须的。
星期五，中午12点过一刻，Class10实验室内，莫水正紧盯着监控仪器。
由于是采用纳米蚀刻法（Nanoimprintlithography，简称NIL），来进行芯片制作，因此，关键的地方就是要设计好模型。而这模型，莫水已经是完全地建立了起来，并且也经过了局部的电路试验，所以，出成品的成功率是相当的高的。
其实，整个芯片，结构是相当简单的，就是简单的电子卦的一个集合而已。但是，越简单的东西，所能发挥的效果就越大。
易简而天下之理得矣！“卦象芯片”其实也就是这个道理。
在实验台上进行芯片的制作，过程说快也快，说不快，那当然不能和工业化的比较。在下午上班之前，莫水已经得到了三片3cm*3cm*3cm这样尺寸的芯片。为了能够得到这样的尺寸的晶圆，莫水也是煞费苦心过。这种尺寸的芯片，应该是在业界从来不曾出现过的。毕竟从常理来看，芯片厚度是关系到芯片散热的关键问题，把芯片厚度尺寸作的如此厚，那是根本不可想象的，但是，现在在“卦象芯片”中，量子态的电子集团的运行，基本不产生热效应，这为芯片的厚度创造了条件。
其实，整个“卦象芯片”是一个中空的八卦球体，围绕着后天文王八卦的电子卦依据这八个卦层层地展开着。在这里面，只存在着规则，数理运行的规则，八卦的规则，除了这